EUV露光技術:半導体微細化を支える次世代技術と投資機会
EUV(極端紫外線)露光技術は、半導体製造における革新的な技術であり、微細な回路パターンの形成を可能にします。この技術は、5nm以下の最先端半導体の製造に不可欠であり、AI、5G、自動運転などの分野での需要拡大に伴い、市場は2025年から2031年にかけて年平均23.4%の成長が見込まれています。ASMLがEUV露光装置で世界シェアをほぼ独占しており、関連銘柄としては、EUVレジストを手掛ける東京応化工業やJSR、信越化学工業などが注目されています。EUV露光装置の導入には莫大なコストがかかるものの、半導体メーカー各社はEUVに関する投資を活発化させており、今後の技術革新と市場成長に期待が集まっています。
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EUVフォトレジスト(感光材)で世界トップクラスであり、最先端のメタルレジスト(MOR)も推進している。
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