企業概要 (Summary)
トリケミカル研究所は、半導体製造に不可欠な高純度化学材料を開発・製造・販売する企業です。最先端の化学研究技術を基盤とし、スマートフォンやAI、光ファイバーなど、幅広い分野で利用される製品を提供しています。高い技術力と顧客ニーズへの対応力で、グローバル市場での成長を目指しています.
事業詳細・セグメント
トリケミカル研究所は、半導体製造に不可欠な高純度化学材料の開発、製造、販売を行っています。事業は、半導体製造の前工程で使用されるCVD材料、ドライエッチング材料、拡散材料の提供を主軸としています。これらの材料は、半導体の高性能化、高集積化に貢献し、スマートフォン、AI、光ファイバーなど、現代社会を支える様々な製品に利用されています。また、太陽電池用材料の供給も行い、事業の多角化を図っています。同社は、顧客ニーズに応じた製品開発と、高品質な製品供給を通じて、半導体業界の発展に貢献しています.
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有望技術・成長ドライバー
高純度化学材料製造技術: 世界最高レベルの純度(99.9999%以上)を誇るウルトラファインケミカルの開発・製造技術
ALD(Atomic Layer Deposition)技術: 薄膜形成技術
MOF(多孔性金属錯体)関連技術: 将来有望なMOF材料の開発に向けた研究
ALD(Atomic Layer Deposition)技術: 薄膜形成技術
MOF(多孔性金属錯体)関連技術: 将来有望なMOF材料の開発に向けた研究
関連する事業テーマ・キーワード
半導体
高純度化学材料
ウルトラファインケミカル
CVD材料
ドライエッチング材料
拡散材料
前駆体
プリカーサ
Si半導体
光ファイバー
太陽電池
化合物半導体
HBM
High-K
MOF
多孔性金属錯体
材料開発
製造
販売
電子材料
半導体製造装置
エッチング
成膜
絶縁膜
有機金属材料
無機金属材料
金属材料
グローバル展開
台湾
韓国
東京証券取引所
東証プライム
株式
企業
技術
研究開発
ASML
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企業基本データ
| 設立 | 1978年12月 |
|---|---|
| 資本金 | 32億7,891万円(2025年1月31日現在) |
| 従業員数 | 237名(2024年1月31日現在) |
| データ取得日 | 2026-01-12 04:07:05 |