企業概要 (Summary)
サムコ株式会社は、半導体等電子部品製造装置の製造・販売を行う企業です。CVD装置、ドライエッチング装置、ドライ洗浄装置などを製造し、薄膜技術をコア技術として、化合物半導体分野に強みを持っています。
事業詳細・セグメント
サムコの事業は、半導体等電子部品製造装置の製造・販売に特化しています。主な製品は、薄膜形成分野のCVD(Chemical Vapor Deposition)装置、ALD装置、微細加工分野のドライエッチング装置、洗浄・表面処理分野のドライ洗浄装置などです。これらの装置は、半導体、電子部品、MEMS(微小電気機械システム)、光通信デバイス、パワーデバイスなどの製造に利用されています。サムコは、自社で企画設計を行い、協力会社に製造を委託し、製品出荷前に調整や性能・品質検査を実施しています。同社の強みは、プラズマを用いたプロセス技術と、化合物半導体分野における薄膜形成技術にあります。販売は、国内の営業所、および海外は一部代理店や現地法人を通じて行っています。
スポンサーリンク
[Google AdSense: company_mid_responsive]
ここに広告が表示されます
ここに広告が表示されます
有望技術・成長ドライバー
CVD(Chemical Vapor Deposition)技術:薄膜形成技術
ALD(Atomic Layer Deposition)技術:原子レベルで膜厚を制御する薄膜形成技術
ドライエッチング技術:薄膜の微細加工技術
Aqua Plasma®技術:溶液を使わないドライ洗浄技術
化合物半導体加工技術:SiCやGaNなどの次世代パワー半導体材料の加工技術
ALD(Atomic Layer Deposition)技術:原子レベルで膜厚を制御する薄膜形成技術
ドライエッチング技術:薄膜の微細加工技術
Aqua Plasma®技術:溶液を使わないドライ洗浄技術
化合物半導体加工技術:SiCやGaNなどの次世代パワー半導体材料の加工技術
関連する事業テーマ・キーワード
半導体
電子部品
製造装置
CVD
ALD
ドライエッチング
ドライ洗浄
Aqua Plasma
薄膜形成
微細加工
プラズマ
化合物半導体
SiC
GaN
パワーデバイス
MEMS
光通信デバイス
レーザー
オプトデバイス
電子部品製造
半導体製造
研究開発
材料開発
プロセス技術
表面処理
洗浄
真空技術
成膜技術
エッチング技術
半導体製造プロセス
装置販売
アフターサービス
グローバル展開
海外拠点
京都
半導体製造装置
※上記のキーワードをクリックすると、同じ事業テーマを持つ他の企業を探せます。
企業基本データ
| 設立 | 1979年9月1日(株式会社サムコインターナショナル研究所として設立) |
|---|---|
| 資本金 | 16億6,368万円 |
| 従業員数 | 191名(単独、2025年7月期) |
| データ取得日 | 2026-01-12 12:12:12 |