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EUV露光技術:半導体微細化を支える革新技術とその市場展望

EUV(極端紫外線)露光技術は、半導体製造における微細化を劇的に進める革新的な技術です。7nm以下の微細な回路パターンの形成を可能にし、スマートフォンや高性能コンピュータ、AIチップなどの高性能デバイスに不可欠です。市場は2024年に112億6,000万米ドルと評価され、2025年から2032年の予測期間中に20.10%のCAGRで成長し、2032年には487億6,000万米ドルに達すると予測されています。ASML社がEUV露光装置市場をほぼ独占しており、関連銘柄としては、ASML、東京エレクトロン、信越化学工業、東京応化工業などが挙げられます。今後の技術革新と市場拡大に注目が集まっています。
関連ワード: #EUV露光装置 #半導体製造 #ASML #フォトレジスト #微細化
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HOYA株式会社は、光学機器・ガラスメーカーです。メガネレンズ、コンタクトレンズ、医療用内視鏡、白内障用眼内レンズ、半導体製造用部材などを製造・販売しています。ライフケアと情報・通信の2つの事業領域でグロ... 続きを読む
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