企業概要 (Summary)
レーザーテックは、半導体関連装置、FPD関連装置、レーザー顕微鏡の開発・製造・販売を行う企業です。「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」を経営理念とし、最先端の光応用技術をコアとしています。EUVマスク欠陥検査装置で高い世界シェアを誇ります。
事業詳細・セグメント
レーザーテックは、半導体関連装置、FPD関連装置、レーザー顕微鏡の開発、製造、販売、サービスを提供しています。半導体関連装置では、マスク欠陥検査装置、ウェハ検査装置などを手掛けています。FPD関連装置では、FPDフォトマスク欠陥検査装置を提供しています。レーザー顕微鏡は、半導体材料、透明膜、コーティング材料、各種バイオ系試料など、幅広い産業分野の研究開発、品質管理に活用されています。コア技術として、光応用技術(レーザー顕微鏡、共焦点光学系技術、DUV/EUV光学系技術、光干渉計技術)を有しています。EUVマスクブランクス欠陥検査装置は業界標準の検査装置として採用されています。
スポンサーリンク
[Google AdSense: company_mid_responsive]
ここに広告が表示されます
ここに広告が表示されます
有望技術・成長ドライバー
光応用技術: レーザーテックの核となる技術で、検査・計測の可能性を追求
レーザー顕微鏡: 高解像度化を図り、全焦点で高精細な3次元画像を実現
共焦点光学系技術: 全焦点で高精細な3次元画像を得る技術
DUV/EUV光学系技術: 半導体リソグラフィの微細化に対応
光干渉計技術: 光の位相の僅かなずれを正確に測定
EUVマスク関連検査装置: EUVリソグラフィに対応した高性能検査装置
レーザー顕微鏡: 高解像度化を図り、全焦点で高精細な3次元画像を実現
共焦点光学系技術: 全焦点で高精細な3次元画像を得る技術
DUV/EUV光学系技術: 半導体リソグラフィの微細化に対応
光干渉計技術: 光の位相の僅かなずれを正確に測定
EUVマスク関連検査装置: EUVリソグラフィに対応した高性能検査装置
関連する事業テーマ・キーワード
半導体
FPD
レーザー顕微鏡
検査装置
計測装置
マスク
ウェハ
欠陥検査
EUV
リソグラフィ
光応用技術
共焦点光学系
DUV
光学系
光干渉計
フォトマスク
マスクブランクス
ウェハエッジ検査
膜厚検査
SiCウェハ
レーザー
高解像度
3次元画像
微細化
半導体製造プロセス
品質管理
研究開発
グローバルニッチトップ
世界シェア
半導体関連装置
FPD関連装置
エネルギー・環境関連装置
LSI
自動欠陥検査
OPTELICS HYBRID
シリコンアイランド
微細化技術
3Dパッケージング
TSMC
HBM
DRAM
2ナノ半導体
EUV露光装置
ASML
ナノテクノロジー
次世代パワー半導体
※上記のキーワードをクリックすると、同じ事業テーマを持つ他の企業を探せます。
企業基本データ
| 設立 | 1962年8月13日 |
|---|---|
| 資本金 | 9億3100万円 |
| 従業員数 | 連結1,163名(2025年6月時点) |
| データ取得日 | 2026-01-12 13:52:31 |